Die Logo Patch Beanie von Acne Studios vereint ein geripptes Strickmuster und einen breiten, umgeschlagenen Umschlag mit einem minimalistischen Logo-Patch für raffinierte, alltägliche Wärme. Hauptmerkmale: Hellgrau | Wolle | Weich | Warm | Bequem | Stretch-Strick für sicheren Sitz | Dickes Garn für Isolierung | Geripptes Strickmuster | Breiter, umgeschlagener Umschlag | Minimalistischer Logo-Patch am Umschlag | Maße & Passform: Umfang: 59 cm | Einheitsgröße | Zusammensetzung & Pflege: Shell: 82% Wolle, 15% Yakwolle, 2% Nylon, 1% Elastan